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MP-2C台式双盘四速磨抛机通过控制磨盘和抛盘的不同转速完成各种试样的粗磨、干磨、湿磨及抛光等各道工序。该机的磨抛盘直径均大于国内同类产品,可增加有效工作面20%-30%,可适应不同材料的制备要求,并可以提高试样的磨抛质量和制备效率,是比较完善和理想的金相制样设备。 |
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