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产品导航 >> 物理仪器 >> 其他物理仪器 >> DHAP-1常压微波射流等离子体实验装置/DHRP-1电感耦合射频等离子体实验装置DH-USP-1小型程序控温蒸发镀膜仪
DHAP-1常压微波射流等离子体实验装置/DHRP-1电感耦合射频等离子体实验装置DH-USP-1小型程序控温蒸发镀膜仪
DHAP-1常压微波射流等离子体实验装置/DHRP-1电感耦合射频等离子体实验装置DH-USP-1小型程序控温蒸发镀膜仪
1712022
DHAP-1
常压微波
射流等离子体实验装置
主要实验内容:
1、MPJ分解处理各种废气(如SO2NOx、有机硅、甲醛、含苯环的烃类等);
2、MPJ制备纳米材料(如纳米碳管、ZnO、Al等);
3、MPJ材料表面清洗及改性、MPJ材料加工等实验;
4、MPJ光谱分析(需配备光谱仪)。
主要技术参数:
1、微波功率:0~800W连续可调输出;频率:2.45GHz;
2、微波电源:最大输出功率1000W
3、微波传输模式:BJ26波导沿TE10模式传输
4、工作气压:1~1.1大气压;
5、工作气源:两路工作气源,一路可带液态气;
6、流量控制范围:一路质量流量计0~200SCCM 一路浮子流量计0~200ml/min(进口);
7、自带循环冷却水装置,水温控制范围10~30
8、水箱容量:30L;
9、等离子体电子温度:0.1-3eV;
10、供电电源:AC220V,50Hz;整机功率2KW。
DHRP-1
电感耦合
射频等离子体
实验装置
主要实验内容
1、等离子体消毒灭菌实验(如大肠杆菌(8099)、金黄色葡萄球菌(ATCC6538));
2、等离子体材料表面改性实验(如纸张亲水性、纸张接触角);
3、等离子体材料表面清洗实验;
4、等离子体聚合实验。
主要技术参数
1、真空室体积:140×150mm3
2、射频功率:0~500W;
3、频率:13.560MHZ;
4、工作气压:10~200Pa;
5、真空室本底真空:≤5Pa;
6、反应腔极限真空:0.67Pa;
7、等离子体电子温度:1~8Ev;
8、等离子体电子密度:0.1-5×10个电子/m3
9、真空系统:DRV-16双极旋片,抽速:4L/S
10、真空计:电阻真空计;
11、观察窗口:Φ130mm;
12、供电电源:AC220V,50Hz;整机功率:2KW。
DH-USP-1
小型程序控温蒸发镀膜仪
镀膜仪是一款小型台式程序控温蒸发镀膜仪,可以设定程序,精确控制温度200℃~1500℃最大可蒸镀直径2英寸薄膜样品,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜和有机物薄膜,广泛用于电极的制备和有机物发光LED
主要技术参数
1、工作电压:AC220V 50/60Hz ;蒸发功率:500W,最大电流:50A,
整机功率约2KW
2、真空镀膜室:内径Φ150mm×高度200mm
3、蒸发电极:Ф10mm无氧铜电极一对,间距:70mm
4、温控及加热源:采用钨丝篮作为发热源,并且配有专用的氧化铝坩埚,热电偶安装在坩埚底部,以便于温度测量和控制;
5、标准采用S型热偶:工作温度为200℃~1500℃
6、数显温度控制器:可设置30段升降温程序,控温精度为±1℃;也可将仪器转换到手动调节状态,内部安装热电偶,直接采用手动调节输出电流大小;
7、衬底架,直径为Φ140mm;衬底台可旋转,转速为:530转可调;可同时放置4个Φ50衬底;
8、衬底架和蒸发源之间的距离可以调节,调节范围为:60100mm
9、真空系统:真空度达到5×10-1 Pa,蒸发贵金属如Au,Ag
选配:分子泵真空系统,真空度达到5×10-4 Pa,蒸发易氧化材料。
实验耗材:衬底基片和蒸发镀料。

TEL:15319737635
QQ:2841034937  

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相关参数
 型号名称: DHAP-1常压微波射流等离子体实验装置/DHRP-1电感耦合射频等离子体实验装置DH-USP-1小型程序控温蒸发镀膜仪
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